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Photomaster® : Negative Type Photo-Resist Ink |
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Photomaster®는 ㈜코오롱의 PCB 내층용, PDP Etching용 등에 사용되는 Negative Type의 액상 Photo-Resist 제품입니다.
● 고해상도(1mil) 및 높은 수율의 생산성(> 99%)
● 알칼리 에칭액에 대한 뛰어난 내성
● 우수한 코팅성
● 우수한 표면경도
▶ Photomaster® Line-Up
● Photomaster® ND-066, ND-088
- Liquid Photoimageable Etching Resist Ink for Dip Coating
Application
● Photomaster® NR-027
- Liquid Photoimageable Etching Resist Ink for Roller Coating
Application
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| Rubyguard® : Positive Type Photo-Resist Ink |
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Rubyguard®는 ㈜코오롱의 COF, LCD 공정에 사용되는 Positive Type의 액상 Photo-Resist 제품입니다.
● 초고해상 Pattern 구현
● 탁월한 Chemical Resistance
● 우수한 코팅성
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 Rubygaurd® Process Properties
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Substrate
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Copper
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PR Properties |
Customized Property
(Standard : Viscosity-20cp, Solid Content : 20.0wt%) |
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PR Thickness after Drying |
2.2 ± 0.2㎛ |
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Drying |
110~120℃ / 50~60sec, Convection Oven |
Exposure
(after cooling Room Temp.) |
60~80mJ/㎠ |
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Developing |
0.9~1.0 wt% KOH(Dipping Method),
Developing time 40~60sec, 25℃ |
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